熱化學(xué)氣相沉積-熱CVD技術(shù)

化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來(lái)制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過(guò)程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域工藝設(shè)備開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，先后完成了PECVD、APCVD、LPCVD、ALD等設(shè)備的開(kāi)發(fā)，致力于為集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類(lèi)型的CVD設(shè)備，滿(mǎn)足客戶(hù)多種制造工藝需求。

熱CVD設(shè)備型號(hào)：HCVD400-40 / 工作溫度：800℃

套裝內(nèi)容：管式爐、控制器、石英爐芯管、法蘭、支架、龍門(mén)架
　　　　　　　* 討論了龍門(mén)架的形狀和尺寸、燃?xì)忸?lèi)型、流量計(jì)、燃?xì)夤艿?、閥門(mén)部件。